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第237章 技术不眠(2/5)

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12月9日，正当方卓匆匆结束会议，准备乘机飞一趟北京，他忽然接到胡正明教授的电话，得知对方已经到了上海，要聊一聊冰芯的情况。

方卓有些吃惊，更改行程，等来了胡教授。

胡正明目前在冰芯属于半退休的状态，一方面仍旧研究FinFET工艺的优化，另一方面则是投入到教育和科研之中。

上午十点钟，方卓见到了胡正明，觉着这位精神状态很好。

他刚想打招呼就听到胡教授的调侃。

“方总，辛苦你了。

”胡正明上前握手，十分郑重。

“不辛苦，主要是大家辛苦。

”方卓觉着老教授今天还挺正式。

胡正明感慨道：“你都沦落到直播卖艺了，还不辛苦呢。

” “这个……如果看我卖艺的人数上升到几百万，那也就不叫卖艺了。

”方卓笑道，“这叫公共传媒的新尝试。

” “方总，你是这个。

”胡正明竖了竖拇指，转入正题，“光刻胶一受限，冰芯接下来两年都会比较困难啊。

” “如果两年是个确定数字，那这时间倒也不算太困难。

”方卓笑道，“要是新阳合肥的人告诉我，从现在到730天之后，他们能拿出可以使用的光刻胶，咱们现在都要喝两杯了。

” “光刻胶确实是个问题。

”胡正明沉吟道，“但现在也有不存在光刻胶问题的企业。

” “你是说从中芯那边临时挪过来用用？”方卓思考着胡教授的意思，说道，“冰芯现在的光刻胶时限不光我们知道，别人也知道，而且，中芯的16nm还需要时间，有时候，太先进也是个问题。

” 胡正明笑着点了点头，冰芯现在就是太先进了。

除了这个因素引来限制，像眼下的光刻胶问题，其它工艺还可以想着办法的借用借用，冰芯的16nm工艺所需要的光刻胶与中芯20nm使用的光刻胶是不同的。

前者需要更高的分辨率，需要更好的光吸收和图案传递。

如果直接把中芯20nm工艺所用的光刻胶挪到冰芯16nm上面，会影响到芯片的尺寸精度和电路的完整性，更精细结构中也难以拥有合标的对比度，这就会让显影过程中难以区分图案和背景。

以及，不同工艺还存在兼容性问题，有可能出现残留物、桥接或缺失等工艺缺陷。

这些综合问题都会导致良率的大幅度下降，即便进行大量的工艺参数调整和优化工作，也会让生产成本急剧上升到难以接受的程度。

冰芯使用了第二代FinFET的16nm在当下仍旧属于全球第一，也由此带来太过先进的内地行业难以匹配的问题。

这一点也很难怪内地行业，全球分工的行业局面之下，光刻胶市场被美日厂商把持，就是去欧洲也买不到可用的光刻胶。

同样的，三星面临被日本断供光刻胶等材料的局面，它也无法解决，最终是韩日多次斡旋才最终达成一致。

冰芯在2012年就推动了国内厂商联合创建“芯材”，尝试解决卡脖子的问题，尽管获得一些成效，但仍旧无法让人满意，最终只能继续在“芯材”研发的基础上亲自下场，继续奔着目标努力。

这个过程已经持续3年，未来又需要多久才能突破，谁也没法打包票。

方卓给胡教授倒茶，两人沉默着喝了一会茶。

胡教授眼瞧着这么一会喝茶的功夫，小刘秘书都进来瞧了两会，他也就进一步阐述了自己关于冰芯的想法。

“方总，我看BIS和它驱使的日本厂商这次都是只把范围局限在冰芯上面，光刻胶是个尖锐的问题，它很锋利，但如果扩大范围，也可能遭到

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